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c.制造工具。
虽然您会发现使用光刻模拟在生产环境中发布的材料较少[40-42],但其原因是在生产中人为地限制了发布,而不是使用光刻模型。 在生产环境中,仿真使用三个主要目标:减少必须通过生产线进行的测试或实验晶圆的数量; 找出FAB中的故障问题; 通过提供真实的信息,它有助于在决策中支持工程判断和直觉。
在生产线上运行测试晶圆消耗太多,不是因为测试成本,而是因为不运行产品可能的成本[43]。 如果能减少生产线上不运行产品的模拟时间,哪怕是一点点,投资回报也会很高。 仿真还有助于使新流程上线,并在所需的时间范围内建立新流程的基线能力。
虽然不是完整的列表,但生产环境中最常见的光刻仿真示例包括:
薄膜覆盖优化。
处理窗口。
NA优化。
OPC 验证。
CD、CPK 分析的益处有限。
根本原因分析疑难解答。
这些示例用法将在后面的部分中更详细地介绍。
房东,绝对是自己翻的,希望能用到。
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c.制造工具。
尽管人们会在光刻模拟之上找到相对较少的已发表材料。
制造业环境[40-42],究其原因在于制造业的出版人有限。
不使用有限光刻模型。 在制造环境中使用仿真。
有三个主要目标:减少测试次数,或者必须通过实验晶圆运行才能完成。
生产线,对障碍的优秀修复问题,并通过提供事实来帮助决策。
支持工程裁判和直觉。 竞速测试晶圆以完成一条生产线是昂贵的。
如此多的成本测试是合适的,但由于机会成本不会与产品竞争[43]。如果模拟。
为了减少生产线的时间,哪怕是一点点的产品竞争,这又回到了投资罐子上。
为新程序建立基线能力。 虽然不是完整的目录,但最常见的。
在制造环境中模拟的光刻用例包括:
短片堆叠优化。
程序 Windows**。
NA优化。
OPC 验证。
激光光盘产量,CPK分析。
故障修复 根本原因分析。
这些用例将在后面的章节中更详细地描述。
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